离子束沉积系统IBD采用真空沉积工艺，使用直接聚焦在溅射靶上的宽束离子源实现离子束沉积溅射镀膜。然后，来自靶材的溅射材料沉积在附近的衬底上形成薄膜。

磁控溅射系统MagSput™是下一代磁控溅射沉积系统，实用性腔,可扩展性高,且高度可靠,feichang适合磁控溅射镀膜科学研究。

多功能物理气相沉积平台可搭载溅射,热蒸发,电子束蒸发,等离子体和离子束处理功能模块,是多功能PVD系统。允许*大的腔室投掷距离，并能够适应*多工艺增强。

COVAP物理气相沉积系统为许多工艺应用提供紧凑、经济、但仍然稳健的PVD解决方案。专为需要安全可靠PVD的实验室而设计，该COVAP物理气相沉积系统可在紧凑的实验室内生产可重复的高质量薄膜。

ALD系统AT410提供了用于3D样品制备的共形导电薄膜解决方案，同时还提供了目前使用溅射/蒸发生长的传统2D涂层。ALD系统AT410不仅推动了边界，而且是当前样品制备过程的有效替代品，所有样品制备都在可比价格点的台式配置内。

等离子体增强原子层沉积系统采用*大的腔室和等离子ALD模块,获得**的原子层沉积效果。

科研型原子层沉积系统ALD系芬兰picosun公司R-200 standard原子层沉积技术,具有**的热壁设计和单*的入口，可实现无颗粒工艺，适用于晶圆，3D对象和所有纳米级*征上的多种材料。

近红外CMOS相机的波长灵敏范围365-1400nm,适合近红外成像,短波红外成像等诸多应用。

高功率488nm激光器是一款单模,单频,超低噪音的连续波488nm激光器,***高可提供2W激光输出,广泛用于原子分子物理学,激光干涉,仪器光源等应用。

1064nm光纤激光放大器是一款单模,单频,超低噪音的连续波1064nm激光器,***高可提供130W激光输出,广泛用于原子分子物理学,激光干涉,仪器光源等应用。

1030nm光纤激光放大器是一款单模,单频,超低噪音的连续波1030nm激光器,***高可提供130W激光输出,广泛用于原子分子物理学,激光干涉,仪器光源等应用。

1015nm光纤激光放大器是一款单模,单频,超低噪音的连续波1015nm激光器,广泛用于原子分子物理学,激光干涉,仪器光源等应用。

高功率976nm激光器是976nm光纤激光器及其放大器,具有单模,单频,超低噪音等*点。

窄带ASE光源提供高光谱密度输出,可提供中心波长在1μm（如1064nm）或1.5μm–1.6μm光谱区域的光源。

C&L波段宽带ASE光源基于半导体二极管泵浦掺铒光纤的放大自发辐射,在1525nm–1610nm波长范围内提供高光谱密度输出。它包括驱动和温度控制电子设备。

该L波段宽带ASE光源基于半导体二极管泵浦掺铒光纤的放大自发辐射，在1560nm–1610nm波长范围内提供高光谱密度输出。它包括驱动和控制电子设备。

这种C波段宽带ASE光源基于半导体二极管泵浦掺铒光纤的放大自发辐射，在1525nm–1570nm波长范围内提供高光谱密度输出。它包括驱动和控制电子设备。

这款1064nm宽带ASE光源基于半导体二极管泵浦掺镱光纤放大自发辐射技术,作为1µm宽带ASE源在1015nm–1085nm波长范围内提供高光谱密度输出。

1550nm单频掺铒/镱光纤放大器是连续波保偏光纤放大器,专门用于放大基于分布反馈（DFB）光纤激光器或固态技术的窄线宽、单频种子激光器。

1064nm单频连续光纤放大器是连续波、保偏、单频掺镱光纤放大器,专门用于放大基于分布反馈（DFB）光纤激光器或固态技术的窄线宽、单频种子激光器。