光刻掩膜版专业用于微电子高精度光刻掩膜而设计,采用卤化银感光物质,也可用于同步加速器设备中的布拉格衍射X射线断层摄影和X射线放射成像。
这套无掩膜光刻机具有无掩模光刻技术的便利,大大提高无掩膜影印和新产品研发的效率,节省时间,是全球**的无掩模光刻系统。
多波长激光直写光刻机是全球**的多波长激光光刻机,它提供325nm,375nm,405nm,445nm紫外光源对光刻胶直写或紫外敏感胶直接刻划获得微纳结构,直写面积高达12英寸,***小特征尺寸(宽度)可达1微米,适合掩膜,半导体,玻璃,晶体,薄膜等诸多衬底。适合晶圆直写面积:1-12英寸
高分辨率激光直写光刻机是全球**的多功能激光光刻机,它通过固定连续的375nm或405nm紫外光源在光刻胶或紫外敏感胶中直接刻划获得微纳结构,直写面积高达6英寸,***小特征尺寸(宽度)可达1微米,适合掩膜,半导体,玻璃,晶体,薄膜等诸多衬底。晶圆直写面积:1-6英寸
微型激光直写光刻机是全球**的桌面型高分辨率激光光刻系统,它通过固定连续的375nm或405nm紫外光源在光刻胶或紫外敏感胶中直接刻划获得微纳结构,直写面积高达4英寸,***小特征尺寸(宽度)可达1微米。晶圆直写面积:1-4英寸
这款飞秒激光直写光刻系统laser lithography system是专业为微纳结构的激光蚀刻而设计的激光直写光刻机。飞秒激光直写光刻系统基于多光子聚合技术(multi photon polymerization, mPP),适合市场上的各种光刻胶(photoresists ),能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构,是全球**的激光光刻机.
高功率紫外固化灯是全球**的紫外固化仪器,它采用**的大功率紫外冷光源LED灯,提供365nm或405nm波长,非常适合各种粘合固化和光刻胶固化,广泛用于光学,微电子,MEMS,医疗器件等领域的光胶固化。
这款大面积紫外曝光固化机是采用紫外LED冷光源的LED紫外曝光机和LED紫外固化机,是一种冷光源LED紫外固化装置,它提供标准的365nm紫外线,广泛用于光刻胶紫外曝光固化,合晶圆键合 wafer bonding,临时键合temproary bonding,切割蓝膜,切割胶带,切割蓝膜 DICING TAPE的固化应用。兼容4寸,6寸,8寸晶圆,兼容9寸’’(8''晶圆)和7寸(6‘‘晶圆)框架
这款紫外掩膜曝光系统是采用紫外LED冷光源的LED紫外曝光机和LED掩膜曝光机,是一种冷光源紫外LED掩膜曝光装置,它提供标准的365nm紫外线,可适用6英寸晶圆,兼容硬接触和软接触过程,并具有可变掩膜和衬底距离控制功能。适合6英寸晶圆.
桌面型紫外掩膜对准机是全球首款装备有紫外LED光源的mask aligner,是掩膜对准器中的理想冷光源紫外掩膜对准机。能够在4英寸工作面积上实现2微米微结构,对准精度高达3微米,广泛用于光刻掩膜对准曝光,适用于微流体芯片,微电子,光学微结构,MEMS等微纳器件的光刻制作。适合4英寸晶圆.
这款紫外掩膜曝光机是采用紫外LED冷光源的紫外曝光机和掩膜曝光机,是一种冷光源紫外LED掩膜曝光装置,它提供标准的365nm紫外线,同时可根据用户需求提供385nm, 395nm 和405nm紫外光源,适合光学,生物科技,微电子,晶圆键合,固化,细胞培养等多种应用,广泛用于紫外曝光。适合***大4英寸晶圆.
这款紫外曝光固化机是采用紫外LED冷光源的紫外曝光机和紫外固化器,是一种冷光源紫外LED固化装置,它提供标准的365nm紫外线,同时可根据用户需求提供385nm, 395nm 和405nm紫外光源,适合光学,生物科技,微电子,晶圆键合,固化,细胞培养等多种应用,广泛用于紫外曝光和紫外固化。***大适合4英寸晶圆.
这套飞秒激光精细加工系统是采用美国飞秒激光器集成的飞秒激光微细加工系统和飞秒激光微加工工作站。它可以自由选择飞秒激光器,皮秒激光器,紫外激光器进行飞秒激光精细加工,皮秒激光微细加工,紫外激光精细加工等应用。
这套工业级飞秒激光微纳加工系统专业为工业激光微加工研究和生产而研发的成熟的飞秒激光微加工系统,可用于飞秒激光打孔,飞秒激光蚀刻,飞秒激光多光子聚合等微纳加工应用,具有非常绝佳的可靠性和超高的加工速度。
这套激光微加工平台特别为飞秒激光微加工定位和飞秒激光微加工位移应用设计设计的纳米级激光微加工平台和激光微加工位移台,广泛适合全球主流的飞秒激光器和皮秒激光器,全面满足科学家和工程师自我搭建激光微加工系统的要求, 已经在美国和欧洲被科学家和激光微纳设备制造商广泛采购使用。
这款532nm被动调Q纳秒激光器是德国制造的一款性能卓著的脉冲532nm半导体泵浦固体激光器,532nm纳秒激光器采用走离交补偿技术,具有高达50%倍频效率,532nm被动调Q纳秒激光器非常适合LIDAR和LIBS(激光诱导击穿光谱)使用。我们可以按照用户要求提供定制激光器服务,请联系我们。
这款1064nm被动调Q微片激光器是使用键合晶体制造的1064nm脉冲二极管泵浦固体激光器。这个系列的1064nm脉冲半导体泵浦激光器使用不同的泵浦技术和键合晶体制作不同能量的1064nm二极管泵浦激光器,高能量激光器可达210微焦@数千赫兹,低功率产品也可达70uJ@KHz。
表面增强拉曼芯片SERS是采用**技术技术飞秒激光微纳加工而成的表面增强拉曼衬底片SERS,在衬底表面创建随机自形成纳米结构,尺寸覆盖100nm到微米尺度,可采用多种随机波长激发。表面增强拉曼芯片SERS可采用镀金或镀银工艺,大大扩展了分析分子的选择性。
合束多波长激光器是一款405nm,488m,532nm,638nm四种波长合束而成的多波长激光器引擎,四种波长激光共用同一准直光路,使得一套激光器输出4种激光波长。
多波长合束激光器是一款405nm,488m,561nm,638nm四种波长合束而成的多波长激光器引擎,四种波长激光共用同一准直光路,使得一套激光器输出4种激光波长。