阴极发光成像系统

阴极发光成像系统cathodoluminescence (CL) imaging是为材料表征设计的阴极荧光成像系统。
阴极发光成像系统可提供6种不同的CL成像模式,支持*加丰富地分析样品。另外，这套阴极发光成像系统还具有宽光谱范围,高灵敏度,自动准直等*点,方便用户实验使用。
阴极发光成像系统可与主流的商用SEM匹配，方便把SEM改造成功能强大的阴极发光探测系统。

阴极发光成像系统成像模式：
快速强度成像
角分辨成像
偏振光滤除光谱
高光谱成像
镜头扫描能量LSEK成像
时间分辨成像
阴极发光成像系统规格参数
波长范围：185nm-1700nm
波长分辨率： 0.1nm, （配备外部光谱仪可做到0.03nm)
视场： 1mm^2强度mapping
样品尺寸： 没有要求
接收角：1.46pi
镜片定位精度：0.1度