微型激光直写光刻机

微型激光直写光刻机是台式紫外光刻机系统,直写面积高达4英寸，***小*征尺寸（宽度）可达1微米。适用于微流控、微机械或光子学等众多新应用,快速影印制作、光刻掩模制作以及直接在数十或数百微米的薄膜或基板上进行微加工。


微型激光直写光刻机采用激光光刻技术，该技术主要依赖于两大*势：
矢量直写模式：这确保了边缘的完美渲染，既没有拼接痕迹，也没有粗糙感。
*定光学处理线：光学处理链可实现大景深，并确保设备性能高度稳定。这使得能够在厚光阻中实现与薄膜相同的渲染效果，且长宽比保证至少为1x20。
微型激光直写光刻机提供竖直和扫描直写模式，确保直接轨迹偏离小于100nm。微型激光直写光刻机具有电动光学聚焦系统，提供快速精准的聚焦功能，从而适合各种厚度衬底的要求，并具有晶圆装载和卸载系统装备到衬底室供客户选配，增强清洁程度，提高工作量和用户安全程度。
微型激光直写光刻机兼容大多数商用光刻胶，比如SU8，shipley, AZ等，我们还对K-CL胶*别*化，用于微结构应用。

微型激光直写光刻机*色
feichang紧凑的桌面型设计
掩膜制作和激光直写
激光光源375nm 或405nm 任选
兼容所有商用光刻胶
对比度高达1x20
自动聚焦
竖直直写或扫描直写模式

微型激光直写光刻机参数
直线直写速度：>100mm/s
位移台分辨率：100nm
重复精度：100nm
晶圆直写面积：1-4英寸
衬底厚度：150um-5mm
激光光斑大小：1um-50um
标准准直精度：1um
form factor: 10