紫外掩膜曝光系统

这款紫外掩膜曝光系统是采用紫外LED冷光源的LED紫外曝光机和LED掩膜曝光机，是一种冷光源紫外LED掩膜曝光装置，它提供标准的365nm紫外线,可适用6英寸晶圆，兼容硬接触和软接触过程，并具有可变掩膜和衬底距离控制功能。

紫外掩膜曝光系统适合光学，生物科技，微电子，晶圆键合，固化，细胞培养等多种应用，广泛用于紫外曝光固化。
紫外掩膜曝光系统是完全单色紫外发射，具有35mW/cm^2的功率密度，在6英寸的面积上光源均匀度搞到+/-10%, 是理想的高精度紫外曝光机。
这套紫外掩膜曝光系统采用了**的LED光源技术，完全实现单波长紫外冷光源照明，有效消除热效应，非常适合实验室或超净间的紫外曝光使用。
紫外掩膜曝光系统结构紧凑，方便移动，采用触摸屏控制操作，完全有效安全控制自我曝光室。
紫外掩膜曝光系统的LED紫外光源寿命高达1万小时，非常可靠而耐用，不需要日常维护，非常方便使用。

紫外掩膜曝光系统特点
非常紧凑，桌上使用设计
完美的紫外单色LED冷光源
***大工作面积为4英寸晶圆
适合所有光刻胶
分辨率：2微米
无需预热，直接开机使用
实时温度控制功能确保均匀曝光
紫外照明功率强度可调
可单次曝光或连续曝光
适合光学，生物科技，微电子，晶圆键合，固化，细胞培养等多种应用

紫外掩膜曝光系统参数
波长：365nm
功率密度：40mW/cm^2
曝光过程中衬底温度上升：<1摄氏度
曝光时间：1秒到18小时
可编程控制循环：10个
分辨率：2微米
外部尺寸：260x 260x260mm
重量：8.2kg
彩色触摸屏：5.7英寸
供电要求：230V
用电功耗：200W