光学镀膜检测仪PHOTON RT UV-VIS-MWIR是为光学镀膜分析检测设计的镀膜扫描分光光度计,满足光学样品的无人值守薄膜测量。测量基片上同一区域的透射率和**镜面反射率–feichang适合薄膜设计的反向分析,有效波长范围为185nm至5200nm

回流焊翘曲度检测仪是为回流焊制程中的翘度度和平坦度成像分析设计的回流焊模拟仪器。它能够再现回流焊环境温度,让加热中的PCB表面贴装电子元件,电路板翘曲,平整度再现可视，从而发现表面贴装不良的原因。

这套飞秒激光微加工系统是科研级飞秒激光微细加工系统,具有纳米级精度和灵活性和多功能性,适合实验室多用途飞秒激光微加工科学研究和飞秒激光微细加工研究,还可用于三维多光子聚合MPP,飞秒激光蚀刻,飞秒激光钻孔,飞秒激光切割,飞秒激光划线等飞秒激光微细加工.

飞秒激光量子芯片微加工系统是科研级飞秒激光波导直写系统,满足量子芯片刻划和飞秒激光波导制作等实验室多用途飞秒激光微加工,飞秒激光微纳加工研究。

多光子聚合激光工作站FemtoMPP是采用飞秒激光增材技术的飞秒激光多光子聚合光刻机,多光子聚合实验系统,采用立陶宛Lightconversion公司的Pharos或Carbide飞秒激光器.

飞秒激光光栅直写系统FemtoFBG是zhuanye为FBG布拉格光栅直写和飞秒激光波导直写设计的飞秒激光波导直写系统,满足各种波导制作和布拉格光栅制作的需要。

蓝宝石玻璃激光切割划片机FemtoGlASS采用立陶宛lightconversion飞秒激光器,zhuanye用于飞秒激光蓝宝石激光划片切割和飞秒激光玻璃裁切,满足各种蓝宝石和玻璃屏幕科研生产需要。

纳米压印光刻机SMILE制作微光学器件的纳米压印光刻系统,也是晶圆级相机,图像传感器生产中所需的设备。纳米压印光刻机SMILE可在其掩模对准器平台上进行大面积图案化。

中红外光学光热光谱显微镜是采用光学光热红外光谱O-PTIR的红外拉曼显微镜,可在多种应用中提供亚微米红外光谱和图像。中红外光热显微镜mIRage采用基于光学光热红外（O-PTIR）光谱的专有技术，突破了传统红外光谱的衍射极限，填补了传统红外显微光谱和纳米红外光谱的空白。

​​​​​​​感应耦合反应离子刻蚀系统ICPRIE由射频电源感应产生等离子体,以产生各向异性蚀刻。在基本ICP-RIE蚀刻系统中，射频直接连接到用作电极的样品台，产生各向同性等离子体。ICPRIE刻蚀系统有时被称为桶型蚀刻机。

反应离子刻蚀系统​​​​​​​RIE600W是一款进口等离子体反应离子蚀刻机,用于各向同性蚀刻,蚀刻氧化物、氮化物、聚合物等薄膜。等离子体蚀刻系统可容纳直径达200mm的晶片样品。我们的定制的反应离子刻蚀系统可根据几何形状和研究需要处理各种样品尺寸。

电子束-电阻热蒸发复合镀膜系统集合了电子束沉积镀膜和电阻式热蒸发镀膜沉积功能,

真空电阻式热蒸发镀膜机CRTE & THE是***具成本效益的真空沉积镀膜技术之一,热蒸发在沉积有机材料如OLED（有机发光二极管）方面有许多应用。

电子束蒸发系统EB-4P也是电子束沉积系统,有四个容量不同的袖珍坩埚和各种电源,可以添加热阻源或直流和射频溅射或蚀刻。电子束蒸发系统EB-4P是纳米技术、光学、显微镜、分子束外延、功能和装饰涂层等应用中沉积金属、氧化物、磁性材料和电介质的理想选择。

离子束沉积系统IBD采用真空沉积工艺，使用直接聚焦在溅射靶上的宽束离子源实现离子束沉积溅射镀膜。然后，来自靶材的溅射材料沉积在附近的衬底上形成薄膜。

磁控溅射系统MagSput™是下一代磁控溅射沉积系统，实用性腔,可扩展性高,且高度可靠,feichang适合磁控溅射镀膜科学研究。

多功能物理气相沉积平台可搭载溅射,热蒸发,电子束蒸发,等离子体和离子束处理功能模块,是多功能PVD系统。允许*大的腔室投掷距离，并能够适应*多工艺增强。

COVAP物理气相沉积系统为许多工艺应用提供紧凑、经济、但仍然稳健的PVD解决方案。专为需要安全可靠PVD的实验室而设计，该COVAP物理气相沉积系统可在紧凑的实验室内生产可重复的高质量薄膜。

ALD系统AT410提供了用于3D样品制备的共形导电薄膜解决方案，同时还提供了目前使用溅射/蒸发生长的传统2D涂层。ALD系统AT410不仅推动了边界，而且是当前样品制备过程的有效替代品，所有样品制备都在可比价格点的台式配置内。

等离子体增强原子层沉积系统采用*大的腔室和等离子ALD模块,获得**的原子层沉积效果。