压电双晶片变形镜

压电双晶片变形镜采用Bimorph Mirrors技术工艺提供可变形反射镜DM功能,广泛用于激光光束像差控制和天文光学像差控制。
压电双晶片变形镜规格标准
•基片材料可提供石英,玻璃或硅双晶片
 孔径10-500 mm
•变形行程-高达40μm
•控制电极数量-1-128
•频率范围-高达5 KHz
•滞后-12%
•激光损伤阈值-玻璃激光为20J/cm²，TiS激光为3J/cm²
•反射膜-保护性铝，保护性银，金属介质膜，多层介质膜（给定波长反射率ρ≥99%）等。

水冷型压电双晶片变形镜：
•材料-铜、硅
•孔径20-100 mm
•变形行程-高达15μm
•损伤阈值-CO2激光为10kW/cm²，玻璃激光为50kW/cm²
•控制电极数量-***多32个
•频率范围-高达4 KHz
•反射膜镀膜：按客户要求
每个压电双晶片变形镜都配有控制单元的电子模块，通过USB端口或ISA I/O卡与标准PC机相连。包括标准软件。根据请求，主动压电双晶片变形镜可通过倾斜校正器或倾斜保持架进行补充。