这款光学薄膜测厚仪是采用光谱反射计SR技术的反射光谱膜厚仪,测量薄膜反射光谱,测量薄膜厚度和测量薄膜折射率等参数,非常适合日常已知膜系膜堆测量。
这款光学薄膜测厚仪具有较长工作距离,工作距离可调,超大样品台,可选光源等特点。
光学模板测厚仪特点
易于安装
软件基于Windows系统,方便使用
**光学设计,良*系统表现
阵列光谱探测器保证快速测量
测量薄膜厚度和折射率高达5层
可测量反射,透射和吸收光谱
可用于实时在线的薄膜厚度和折射率测量
具有齐全的材料光谱舍数据库
可升级到显微分光光度计
适合不同衬底和不同薄膜厚度测量
光学薄膜测厚仪规格参数
型号 |
SR100 |
SR300 |
SR400 |
SR450 |
SR500 |
SR600 |
探测器类型 |
CCD或CMOS阵列 |
CCD或CMOS阵列 |
InGaAs阵列 |
CCD或CMOS和InGaAs 阵列 |
CCD或CMOS和InGaAs 阵列 |
InGaAs阵列 |
波长范围 (nm) |
190-1100 |
370-1100 |
950-1700 |
370-1700 |
190-1700 |
1000-2500 |
波长分辨率 |
0.01 -3nm |
0.01 -3nm |
3 to 6nm |
0.01 to 3nm |
0.01 to 3nm |
3 to 6nm |
厚度测量范围 |
5nm-50 µm |
20nm-1000µm |
100nm-300µm |
20nm-200µm |
5nm-200µm |
20nm-300µm |
厚度测量精度 |
< 1Å (1 sigma from 50 thickness readings for 1500Å Thermal SiO2 on Si Wafer) |
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厚度精度 |
better than 0.5% (comparing with ellipsometry results for Thermal Oxide sample by using the same optical constants) |
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反射探头光谱范围 |
DUV-Vis |
Vis-NIR |
NIR |
VIS-NIR |
DUV-Vis-NIR |
NIR |
样品台 |
黑色阳极氧化铝合金,样品高度可轻松调节,尺寸为200mmx200mm | |||||
工作距离 |
~ 25mm (从样品表面计算) |
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测量时间 |
0.1ms-10s,可设置定义 |
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用户可设置定义 |
波长范围、波长点、积分时间、光谱平均数、平滑因子 | |||||
接口 |
USB |
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计算机操作系统要求 |
Both 32bit and 64 Bit, Win XP, 7, 8, 10 |
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计算机***低配置 |
P3 above with minimum 150 MB space, 2GB RAM; CD-ROM; at least 2 USB ports |
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供电要求 |
110– 240 VAC /50-60Hz, 1.5 A |
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光源 |
Deuterium + Tungsten Halogen |
Tungsten Halogen |
Tungsten Halogen |
Tungsten Halogen |
Deuterium + Tungsten Halogen |
Tungsten Halogen |
光源强度 |
Adjustable |
Adjustable |
Adjustable |
Adjustable |
Adjustable |
Adjustable |
灯泡寿命 |
4000 hrs. |
10000 hrs. |
10000 hrs. |
10000 hrs. |
4000 hrs. |
10000 hrs. |
光学薄膜测厚仪典型应用
半导体制造
液晶显示屏测量
刑侦
生物膜测量
矿石地质分析
制药医学分析
光学镀膜测量
功能薄膜MEMS测量
太阳能电池薄膜测量