聚焦离子束蚀刻系统

这套聚焦离子束蚀刻系统是一种超高真空UHV条件多功能FIB系统,既可以配置为扫描电子显微镜SEM,也可以配置为结合SEM和高性能聚焦离子束FIB的双束平台。
这套聚焦离子束蚀刻系统采用模块化结构，允许大量选择符合终端用户特定需求和目标的SEM和FIB柱。为要求***严格无污染环境的样品提供***佳、完整和定制的FIB纳米加工、表面分析解决方案。
聚焦离子束蚀刻系统特点
全高真空设计-无污染：是**台超高压设计的FIB-SEM仪器
完全可定制的系统-超高压纳米空间可以定制，以便完全满足特定需求。
在选择时给予了完全的灵活性-FIB柱、SEM柱、注气系统和其他附加配件，视要求而定
高质量设计-*越的条件和独特的双光束几何允许
原位扫描电镜与*质二次钢的相关性
单个仪器中的离子质谱图像
高分辨率成像-纳米空间可以集成静电扫描电镜或，既能产生高质量图像的磁性扫描电镜
准确的样品控制-超高真空兼容6轴工作台允许装载样品，长度和宽度小于或等于100 mm
全自动仪器-纳米空间控制和成像软件,符合人体工程学，易于使用。真空系统完全关闭自动化，以确保安全，快速和方便的真空操作
特高压连接-特高压中间室的设计是为了确保与特高压第三方完全连接的仪表,系统、工艺集群或同步加速器束线
还可以配备超高压兼容的气体注入系统（GIS），用于局部金属沉积和选择性蚀刻。也可以通过超高压中间室与第三方系统（如MBE集群、表面分析仪器）进行现场连接。这种连接性拓宽了纳米空间的应用范围。

Vacuum Performances
Main Chamber Vacuum	5.10-10 mbar
UHV Configuration	Maximum instrument bakeout   temperature is 120°C
Sample Main Chamber Introduction	30 min