电子束蚀刻机

电子束蚀刻机,电子束光刻机NanoBeam nB5是纳米级刻蚀机，feichang适合纳米技术和芯片的制造研发。
电子束蚀刻机,电子束光刻机*点
*化设计和组件，以减少日常服务需求。
实现每年少于5%的机器故障停机时间。
提高性能,促进批量生产。
电子束蚀刻机,电子束光刻机规格参数
射束电压范围20kV-100kV
光胶上的*征尺寸<8nm
500um场的缝合/重叠误差<25nm
自动加载5卡盘气锁系统