混合异质结构分子束外延系统

这款混合异质结构分子束外延系统具有双反应器,feichang适合А3В5和А2В6异质结构生长应用,也可用于epi晶圆研发和试生产。
混合异质结构分子束外延系统是提供从А3В5-反应器到А2В6-反应器的超纯超高压基板传输，避免生长界面的不受控制的污染。
还可以配备V族和VI族元素的阀裂解单元以及所有必要的原位分析工具。
混合异质结构分子束外延系统*势：
•“实验室到工厂”的概念，允许开展从基础研究到异质结构试生产的活动
•铝（冷唇）专用渗出细胞，操作稳定，镓（热唇）提供低椭圆形缺陷密度
•在系统基本配置中对生长过程进行现场监测的所有必要工具
•*别设计的生长操纵器，提供高温均匀性和加热/冷却速率动态
•安装期间的有效技术支持，包括基本工艺转移
•简单的系统操作和定期的技术维护

混合异质结构分子束外延系统参数：

烘烤后生长室的***终真空度，Torr	<5×10-11
***大基板直径，mm	100或3×2″block
100mm晶圆的厚度和复合不均匀度，%	±1
“源到基片”距离，mm	135÷210
渗出细胞百叶窗设计	基于磁耦合旋转运动的无冲击驱动旋转机构
百叶窗叶片材料	钽、钼或PBN（可选）
生长机械手加热元件的设计	PBN/PG/PBN
生长操纵器的***高工艺温度，不低于，℃	900 （NH3-MBE为1200）
准备室中基板脱气温度，不低于，℃	650 （III氮化物为1100）
生长室烘烤温度，不低于，℃	200
离子泵容量，不小于，l/s： –生长室（III-N的TMP） –准备室 –负载锁定	800 (2000) 500 300