多功能紧凑型MBE

这款多功能紧凑型MBE系统具有三个腔室,适合用于А³В⁵, 宽带А²В⁶  和А³N 化合物（订制版本）的生长,MBE系统设计吸收了这些材料系统中分子束外延的***新成果,非常适合用于半导体材料领域中基于А³В⁵ 宽带А²В⁶和III氮化物的材料生长研发。
多功能紧凑型MBE系统基本配置：
•生长室的垂直生长几何结构
•10个水冷63CF端口，用于带百叶窗的渗出细胞，3个40CF和1个不带百叶窗的63CF–共14个端口
•易于接近渗出细胞快门组件
•紧凑的单液氮冷冻板，有效地包围生长体积
•基于PBN/PG/PBN加热元件的生长机械手排气阶段
•标准的分子源，包括5个渗出细胞，V（VI）组或N2血浆细胞的带阀裂解器
•适用于材料应用的泵送子系统
•生长过程数据现场监测的所有必要工具：RHEED、红外高温计、Bayard-Alpert束流监测器、激光干涉仪（可选）
•准备室，带有晶片夹持器的存储盒（6个）和脱气台，带有基于离子泵的独立泵送系统：用于原子氢端口的特殊端口
•装载锁室，带有基板支架的存储盒（3个），快速检修门和基于涡轮分子泵的泵送系统
•一套基板支架
•适当的超高压仪表
•烘烤系统（高达200°C），无热点形成
•控制电子设备
•过程控制系统

多功能紧凑型MBE系统主要*势：
•简单集成到特高压集群工具中
•基本系统配置中包括用于生长参数现场监测的所有必要仪器
•由于生长机械手加热阶段的特点，基板加热和冷却速率高，控制热电偶和实际表面温度之间的温差小
•紧凑的“足迹”
•极低的液氮消耗量（低于10-15升/小时！）
•安装期间的有效技术支持，包括基本工艺转移
•简单的系统操作和定期的技术维护
多功能紧凑型MBE系统参数：

烘烤后生长室的***终真空度，Torr	<5×10-11
***大基板直径，mm	76.2 (3″)
3″基板的厚度和成分不均匀度，%	±1
生长机械手加热元件的设计	PBN/PG/PBN
旋转时的***大基板温度，℃： –对于A3B5/A2B6化合物，不少于 –对于A3N化合物，不少于	900 1200
制备室加热阶段基板脱气的***高温度，℃	650（III氮化物版本为1100）
生长室烘烤温度，不低于，℃	200